Radiation-sensitive resin composition and method of forming interlayer dielectric

WO2011046230 Art A1 21. April 2011

Anmelder: Sharp Corporation, JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011046230
Aktenzeichen
EP10823497
Anmeldetag
14. Oktober 2010
Veröffentlichung
21. April 2011
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/004G03F7/023
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen
Sharp Corporation
JSR Corporation
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

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🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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