Gas treatment method and apparatus for circulating fluidized-bed gasification system

WO2011048779 Art A1 28. April 2011

Anmelder: IHI Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011048779
Aktenzeichen: EP10824633
Anmeldetag: 14. Oktober 2010
Veröffentlichung: 28. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C10J3/54C10J3/00C10K1/10F23J15/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: IHI Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 IHI Corporation

Japanischer Industriekonzern mit Sitz in Tokio, tätig in den Bereichen Schwermaschinenbau, Luft- und Raumfahrttriebwerke sowie Anlagenbau.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Heiz-, Kühl- & Beleuchtungstechnik

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