Charged particle beam device, position specification method used for charged particle beam device, and program
WO2011048946
Art A1
28. April 2011
Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011048946
- Aktenzeichen
- EP10824795
- Anmeldetag
- 6. Oktober 2010
- Veröffentlichung
- 28. April 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/317H01J37/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Hitachi High-Technologies Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
3.840 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.