Wave aberration measuring method and wave aberration measuring device

WO2011049075 Art A1 28. April 2011

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011049075
Aktenzeichen: EP10824924
Anmeldetag: 19. Oktober 2010
Veröffentlichung: 28. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G01M11/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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