Method and system for forming a pattern on a surface using charged particle beam lithography

WO2011049740 Art A1 28. April 2011

Anmelder: D2S, Inc., Tucker, Michael, Jeol Ltd. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011049740
Aktenzeichen: EP10766189
Anmeldetag: 5. Oktober 2010
Veröffentlichung: 28. April 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G03F1/14H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: D2S, Inc.
Tucker, Michael
Jeol Ltd.
Land: 🇺🇸 USA

🇯🇵 JEOL

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das wissenschaftliche und industrielle Präzisionsgeräte entwickelt, darunter Elektronenmikroskope, Analysegeräte und Halbleiterfertigungsanlagen.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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