Pattern measuring apparatus and pattern measuring method

WO2011052070 Art A1 5. Mai 2011

Anmelder: Advantest Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011052070
Aktenzeichen: EP09850849
Anmeldetag: 30. Oktober 2009
Veröffentlichung: 5. Mai 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/04G01N23/225H01J37/22H01J37/28H01L21/027H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Advantest Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Advantest

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, Hersteller von Testsystemen für Halbleiter und elektronische Bauteile.

610 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von

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