Pattern dimension measurement method and charged particle beam microscope used in same

WO2011052339 Art A1 5. Mai 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011052339
Aktenzeichen: EP10826473
Anmeldetag: 30. September 2010
Veröffentlichung: 5. Mai 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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