Acrylate resin, photoresist composition comprising same, and photoresist pattern
WO2011053100
Art A2
5. Mai 2011
Anmelder: LG Chem, Ltd. 🇰🇷
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011053100
- Aktenzeichen
- EP10827184
- Anmeldetag
- 2. November 2010
- Veröffentlichung
- 5. Mai 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/039G03F7/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- LG Chem, Ltd.
- Land
- 🇰🇷 Südkorea
🇰🇷
LG Chem
Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.
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