Process for production of hydrophilic silica film, hydrophilic silica film, and acrylic resin substrate having hydrophilic silica film attached thereto
WO2011055553
Art A1
12. Mai 2011
Anmelder: Shinshu University 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011055553
- Aktenzeichen
- EP10828114
- Anmeldetag
- 8. November 2010
- Veröffentlichung
- 12. Mai 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C01B33/12C09D7/12C09D183/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shinshu University
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shinshu University
Shinshu University ist eine japanische staatliche Universität mit Sitz in Matsumoto und breitem naturwissenschaftlichem Forschungsprofil. Das Patentportfolio verteilt sich auf Medizintechnik und Gesundheit, anorganische Chemie und Werkstoffe sowie Halbleitertechnik. Anmeldungen laufen durchgehend seit dem Jahr 2000.
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