Apparatus and method for formation of low-temperature polysilicon film

WO2011055618 Art A1 12. Mai 2011

Anmelder: V Technology Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011055618
Aktenzeichen: EP10828178
Anmeldetag: 14. Oktober 2010
Veröffentlichung: 12. Mai 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/268H01L21/20H01L21/336H01L29/786

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: V Technology Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 V Technology

V Technology ist ein japanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für Displays und Halbleiter. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik, ergänzt um Fertigungs- und Messtechnik. Anmeldungen laufen von 2005 bis in die Gegenwart.

349 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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