Film forming method and method for forming capacitor

WO2011055671 Art A1 12. Mai 2011

Anmelder: Tokyo Electron Limited 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011055671
Aktenzeichen: EP10828231
Anmeldetag: 28. Oktober 2010
Veröffentlichung: 12. Mai 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/56H01L21/28H01L21/8242H01L27/108

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tokyo Electron Limited
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von