Control valve device

WO2011055688 Art A1 12. Mai 2011

Anmelder: Fujikin Incorporated, Tokyo Electron Limited, Tohoku University 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011055688
Aktenzeichen: EP10828248
Anmeldetag: 29. Oktober 2010
Veröffentlichung: 12. Mai 2011
Rechtsraum: WO
IPC: F16K31/126F16K1/34F16K51/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Fujikin Incorporated
Tokyo Electron Limited
Tohoku University
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Tokyo Electron

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio, einer der weltweit größten Hersteller von Halbleiterfertigungsanlagen. Aktiv in Beschichtungs-, Ätz- und Reinigungssystemen für die Chip- und Displayproduktion.

2.414 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Tohoku University

Staatliche Universität in Sendai, Japan, mit Forschungsschwerpunkten unter anderem in Materialwissenschaften und Werkstofftechnik.

837 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Maschinenelemente & Fluidtechnik

Vertreten von