Method for manufacturing a thin film transistor
WO2011058611
Art A1
19. Mai 2011
Anmelder: Shimadzu Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011058611
- Aktenzeichen
- EP09851245
- Anmeldetag
- 13. November 2009
- Veröffentlichung
- 19. Mai 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/336H01L21/02H01L27/12H01L29/786
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shimadzu Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shimadzu
Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Kyoto. Shimadzu entwickelt Analyse- und Messgeräte, medizinische Bildgebungssysteme sowie Komponenten für Luft- und Raumfahrt, Industrie und Wissenschaft.
2.214 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.