Semiconductor device, method for manufacturing semiconductor device, and semiconductor wafer provided with adhesive layer

WO2011058995 Art A1 19. Mai 2011

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011058995
Aktenzeichen
EP10829954
Anmeldetag
10. November 2010
Veröffentlichung
19. Mai 2011
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/52C09J4/02H01L21/301
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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