In-Ga-Zn-O Type Sputtering Target
WO2011061923
Art A1
26. Mai 2011
Anmelder: Idemitsu Kosan Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011061923
- Aktenzeichen
- EP10831322
- Anmeldetag
- 16. November 2010
- Veröffentlichung
- 26. Mai 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34C04B35/00C23C14/08H01L21/28H01L21/285H01L21/363
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Idemitsu Kosan Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Idemitsu Kosan
Japanisches Energie- und Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio. Aktiv in Mineralölverarbeitung, petrochemischen Produkten, Schmierstoffen sowie Materialien für organische Leuchtdioden (OLED).
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