High-sensitivity and high-throughput electron beam inspection column enabled by adjustable beam-limiting aperture
WO2011062810
Art A2
26. Mai 2011
Anmelder: KLA-Tencor Corporation 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011062810
- Aktenzeichen
- EP10832007
- Anmeldetag
- 9. November 2010
- Veröffentlichung
- 26. Mai 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/26H01J37/147
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- KLA-Tencor Corporation
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
KLA Corporation
US-amerikanisches Unternehmen (frühere Firmierung KLA-Tencor), das Prozesskontroll- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung entwickelt.
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