Large area plasma processing chamber with at-electrode rf matching

WO2011062940 Art A2 26. Mai 2011

Anmelder: Applied Materials, Inc. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011062940
Aktenzeichen: EP10832076
Anmeldetag: 17. November 2010
Veröffentlichung: 26. Mai 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/46H05H1/34

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Applied Materials, Inc.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik

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