Vacuum drainage discharging device
WO2011064929
Art A1
3. Juni 2011
Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011064929
- Aktenzeichen
- EP10832785
- Anmeldetag
- 15. September 2010
- Veröffentlichung
- 3. Juni 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- F16T1/20F16T1/18F16K31/18F16K51/02
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Shin-Etsu Handotai
Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.
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Fachgebiete
Vertreten von
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