Semiconductor substrate and method for manufacturing semiconductor substrate

WO2011064997 Art A1 3. Juni 2011

Anmelder: Sumitomo Chemical Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011064997
Aktenzeichen
EP10832846
Anmeldetag
25. November 2010
Veröffentlichung
3. Juni 2011
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/20
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
Sumitomo Chemical Co., Ltd
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Sumitomo Chemical

Japanischer Chemiekonzern mit Sitz in Tokio, Teil der Sumitomo-Gruppe. Aktiv in Petrochemie, Agrochemie, Pharmazeutika, Elektronikmaterialien, Energiematerialien und Kunststoffen.

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