Positive radiation-sensitive composition, cured film, and method for forming same

WO2011065215 Art A1 3. Juni 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011065215
Aktenzeichen: EP10833062
Anmeldetag: 8. November 2010
Veröffentlichung: 3. Juni 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023G03F7/004G03F7/075

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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