Low-molecular-weight positive-type radiation-sensitive composition, and resist pattern formation method

WO2011070718 Art A1 16. Juni 2011

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011070718
Aktenzeichen: EP10835649
Anmeldetag: 9. November 2010
Veröffentlichung: 16. Juni 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/004H01L21/027C07C39/12C07C39/17C07C43/20C07C43/21C09K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik Organische Chemie

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