Radiation-sensitive resin composition, polymer, monomer and method for producing radiation-sensitive resin composition

WO2011070947 Art A1 16. Juni 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011070947
Aktenzeichen: EP10835869
Anmeldetag: 30. November 2010
Veröffentlichung: 16. Juni 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F12/30C08F20/38C08F20/58G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von