Dual silicon wafer stage exchange method and system for lithographic apparatus

WO2011072597 Art A1 23. Juni 2011

Anmelder: Tsinghua University 🇨🇳

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011072597
Aktenzeichen: EP10837034
Anmeldetag: 14. Dezember 2010
Veröffentlichung: 23. Juni 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H01L21/677H01L21/68

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Tsinghua University
Land: 🇨🇳 China

🇨🇳 Tsinghua University

Chinesische Universität mit Sitz in Peking, eine der führenden Forschungshochschulen des Landes. Aktiv in Ingenieurwissenschaften, Informatik, Materialwissenschaften und Naturwissenschaften sowie in zahlreichen technischen Anwendungsfeldern.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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