Process for production of silicon epitaxial wafer

WO2011074176 Art A1 23. Juni 2011

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011074176
Aktenzeichen: EP10837213
Anmeldetag: 11. November 2010
Veröffentlichung: 23. Juni 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205C30B29/06H01L21/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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