Charged particle beam device and sample observation method

WO2011074178 Art A1 23. Juni 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011074178
Aktenzeichen: EP10837215
Anmeldetag: 11. November 2010
Veröffentlichung: 23. Juni 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/28H01J37/16H01J37/20H01J37/317

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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