Composition for forming photosensitive resist underlayer film

WO2011074433 Art A1 23. Juni 2011

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011074433
Aktenzeichen: EP10837462
Anmeldetag: 6. Dezember 2010
Veröffentlichung: 23. Juni 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/095C08F212/14C08F220/56G03F7/004G03F7/039G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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