Sputtering target with reduced particle generation and method for producing the sputtering target

WO2011077933 Art A1 30. Juni 2011

Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011077933
Aktenzeichen: EP10839167
Anmeldetag: 6. Dezember 2010
Veröffentlichung: 30. Juni 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C22C1/10G11B5/851C22C32/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX Nippon Mining & Metals Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik

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