Radiation-sensitive resin composition and compound contained therein
WO2011077941
Art A1
30. Juni 2011
Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011077941
- Aktenzeichen
- EP10839175
- Anmeldetag
- 7. Dezember 2010
- Veröffentlichung
- 30. Juni 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/004C07C303/28C07C309/75H01L21/027
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JSR Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JSR Corporation
JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.
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