Radiation-Sensitive Composition

WO2011077993 Art A1 30. Juni 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011077993
Aktenzeichen: EP10839226
Anmeldetag: 14. Dezember 2010
Veröffentlichung: 30. Juni 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039C08F220/10G03F7/004H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

1.781 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

Vertreten von