Photosensitive resin composition, photosensitive dry film, and pattern forming method

WO2011081127 Art A1 7. Juli 2011

Anmelder: Micro Process Inc., Mitsubishi Rayon Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011081127
Aktenzeichen: EP10840983
Anmeldetag: 27. Dezember 2010
Veröffentlichung: 7. Juli 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/023G03F7/004G03F7/022H05K3/06H05K3/18

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Micro Process Inc.
Mitsubishi Rayon Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Rayon

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, spezialisiert auf Kohlenstofffasern und Kunststoffe, seit 2017 als Mitsubishi Chemical firmierend.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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