Sputtering target, compound semiconductor thin film, solar cell having compound semiconductor thin film, and method for manufacturing compound semiconductor thin film
WO2011083646
Art A1
14. Juli 2011
Anmelder: JX Nippon Mining & Metals Corporation 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2011083646
- Aktenzeichen
- EP10841815
- Anmeldetag
- 3. Dezember 2010
- Veröffentlichung
- 14. Juli 2011
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34H01L31/04
Abstract
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Anmelder
- Firma
- JX Nippon Mining & Metals Corporation
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
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