Methodology For Cleaning Of Surface Metal Contamination From an Upper Electrode Used in A Plasma Chamber

WO2011084127 Art A2 14. Juli 2011

Anmelder: LAM Research Corporation 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011084127
Aktenzeichen: EP10842349
Anmeldetag: 6. Dezember 2010
Veröffentlichung: 14. Juli 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/205H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM Research Corporation
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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