Composition for production of photosensitive resist underlayer film, and method for formation of resist pattern

WO2011086757 Art A1 21. Juli 2011

Anmelder: Nissan Chemical Industries, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011086757
Aktenzeichen: EP10843112
Anmeldetag: 16. November 2010
Veröffentlichung: 21. Juli 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/039G03F7/095

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nissan Chemical Industries, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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