Exposure method, exposure device, and manufacturing method for device

WO2011087129 Art A1 21. Juli 2011

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011087129
Aktenzeichen: EP11732999
Anmeldetag: 18. Januar 2011
Veröffentlichung: 21. Juli 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F9/00G01B11/16H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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