Semiconductor device and method for manufacturing same

WO2011089647 Art A1 28. Juli 2011

Anmelder: Kabushiki Kaisha Toshiba 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2011089647
Aktenzeichen
EP10843813
Anmeldetag
22. Januar 2010
Veröffentlichung
28. Juli 2011
Rechtsraum
WO
IPC
H01L29/78H01L21/283H01L21/314H01L21/316H01L21/336H01L21/8247H01L27/115H01L29/423H01L29/49H01L29/786H01L29/788H01L29/792
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
Kabushiki Kaisha Toshiba
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

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