Ultrasonic cleaning method

WO2011089673 Art A1 28. Juli 2011

Anmelder: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011089673
Aktenzeichen: EP10843839
Anmeldetag: 15. Dezember 2010
Veröffentlichung: 28. Juli 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/304B08B3/12

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Shin-Etsu Handotai Co., Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Shin-Etsu Handotai

Japanisches Unternehmen der Shin-Etsu-Gruppe, das Siliziumwafer für die Halbleiterindustrie herstellt.

1.022 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Verfahrens- & Trenntechnik

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