Developing solution for photoresist on substrate including conductive polymer, and method for forming pattern

WO2011090114 Art A1 28. Juli 2011

Anmelder: Toagosei Co., Ltd 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011090114
Aktenzeichen: EP11734720
Anmeldetag: 20. Januar 2011
Veröffentlichung: 28. Juli 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/32G03F7/11H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Toagosei Co., Ltd
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 TOAGOSEI CO., LTD.

Toagosei ist ein japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, bekannt für Klebstoffe wie Aron Alpha. Die Patente betreffen Polymere, Klebstoffe und Spezialchemikalien.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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