N-type diffusion layer forming composition, method for manufacturing n-type diffusion layer, and method for manufacturing solar cell

WO2011090216 Art A1 28. Juli 2011

Anmelder: Hitachi Chemical Company, Ltd. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011090216
Aktenzeichen: EP11734822
Anmeldetag: 25. Januar 2011
Veröffentlichung: 28. Juli 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/225C03C8/16H01L31/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi Chemical Company, Ltd.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi Chemical

Ehemaliges japanisches Chemieunternehmen, das Materialien für Halbleiter, Batterien und Verbundwerkstoffe herstellte. Ging nach mehreren Umfirmierungen im Konzern Resonac auf.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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