Holographic mask inspection system with spatial filter

WO2011091877 Art A1 4. August 2011

Anmelder: ASML Holding N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011091877
Aktenzeichen: EP10781644
Anmeldetag: 12. November 2010
Veröffentlichung: 4. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03H1/00G03H1/08G01N21/956G02B27/46G03F1/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML Holding N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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