Arrangement for use in a projection exposure tool for microlithography having a reflective optical element

WO2011092020 Art A2 4. August 2011

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH, ASML Netherlands BV 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011092020
Aktenzeichen: EP11704403
Anmeldetag: 28. Januar 2011
Veröffentlichung: 4. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: Carl Zeiss SMT GmbH
ASML Netherlands BV
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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