Etching liquid for a copper/titanium multilayer thin film

WO2011093445 Art A1 4. August 2011

Anmelder: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc., Sharp Kabushiki Kaisha 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011093445
Aktenzeichen: EP11737155
Anmeldetag: 28. Januar 2011
Veröffentlichung: 4. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23F1/18C23F1/26H01L21/308H01L21/3205H01L21/3213H01L23/52

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.
Sharp Kabushiki Kaisha
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Gas Chemical Company

Japanisches Chemieunternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Fokus auf technische Kunststoffe, Methanol und Spezialchemikalien. Der Konzern beliefert unter anderem die Elektronik- und Verpackungsindustrie.

2.575 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Sharp

Japanischer Elektronikkonzern mit Sitz in Sakai bei Osaka, seit 2016 mehrheitlich zu Foxconn gehörend. Aktiv in Displaytechnik (LCD, OLED), Unterhaltungselektronik, Haushaltsgeräten sowie Halbleiter- und Solartechnologie.

22.800 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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