Method for forming patterned conductive film

WO2011093515 Art A1 4. August 2011

Anmelder: Japan Science and Technology Agency, JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011093515
Aktenzeichen: EP11737223
Anmeldetag: 26. Januar 2011
Veröffentlichung: 4. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C18/10H05K3/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: Japan Science and Technology Agency
JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Japan Science and Technology Agency

Japanische staatliche Förderorganisation für Wissenschaft und Technologie, die Forschungsprojekte finanziert und den Technologietransfer zwischen Universitäten und Industrie unterstützt. Die Behörde untersteht dem japanischen Bildungsministerium.

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🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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