Pattern inspection method and device for same

WO2011096328 Art A1 11. August 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011096328
Aktenzeichen: EP11739677
Anmeldetag: 27. Januar 2011
Veröffentlichung: 11. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G11B5/84G01B11/24G01N21/95

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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