Exposure method, exposure apparatus, pattern forming method, and device manufacturing method

WO2011096428 Art A1 11. August 2011

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011096428
Aktenzeichen: EP11739776
Anmeldetag: 2. Februar 2011
Veröffentlichung: 11. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/213G03F7/20G03F7/22H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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