Material for forming ruthenium film and method for forming ruthenium film

WO2011099467 Art A1 18. August 2011

Anmelder: JSR Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011099467
Aktenzeichen: EP11742211
Anmeldetag: 8. Februar 2011
Veröffentlichung: 18. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/18H01L21/285

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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