Pattern inspection method, pattern inspection program, and electronic device inspection system

WO2011099490 Art A1 18. August 2011

Anmelder: Hitachi High-Technologies Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011099490
Aktenzeichen: EP11742233
Anmeldetag: 9. Februar 2011
Veröffentlichung: 18. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22H01J37/244H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Hitachi High-Technologies Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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