Topcoat composition comprising a polymer containing a repeat unit including a sulfonamide function, photoresist composition containing the same and methods of use

WO2011101259 Art A2 25. August 2011

Anmelder: International Business Machines Corporation, Central Glass Company, Limited 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011101259
Aktenzeichen: EP11703193
Anmeldetag: 3. Februar 2011
Veröffentlichung: 25. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/11

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: International Business Machines Corporation
Central Glass Company, Limited
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 IBM

US-amerikanischer Technologiekonzern mit Sitz in Armonk, New York. International Business Machines entwickelt Hardware, Software, Cloud-Dienste sowie Lösungen für künstliche Intelligenz, Halbleiter und Unternehmens-IT.

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🇯🇵 Central Glass

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Tokio, das Flachglas, Spezialglas sowie Fluorchemikalien für Industrie und Bauwesen herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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