Illumination system and projection objective of a mask inspection apparatus

WO2011101331 Art A1 25. August 2011

Anmelder: Carl Zeiss SMT GmbH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011101331
Aktenzeichen: EP11708746
Anmeldetag: 15. Februar 2011
Veröffentlichung: 25. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/00G03F7/20G01N21/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Carl Zeiss SMT GmbH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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