Plasma processing device and plasma processing method

WO2011102083 Art A1 25. August 2011

Anmelder: ULVAC, Inc. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011102083
Aktenzeichen: EP11744378
Anmeldetag: 26. Januar 2011
Veröffentlichung: 25. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065C23C16/507H05H1/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ULVAC, Inc.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 ULVAC

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chigasaki, spezialisiert auf Vakuumtechnik sowie Anlagen für die Halbleiter- und Displayfertigung.

1.137 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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