Light source optimizing method, exposure method, device manufacturing method, program, exposure apparatus, lithography system, light source evaluation method, and light source modulation method

WO2011102109 Art A1 25. August 2011

Anmelder: Nikon Corporation 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2011102109
Aktenzeichen: EP11744400
Anmeldetag: 14. Februar 2011
Veröffentlichung: 25. August 2011
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/027G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: Nikon Corporation
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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